水鍍和真空鍍的區別

2022/03/16

       PVD-物理氣相沉積：指利用物理過程實現物質轉移，將原子或分子由源轉移到基材表面上的過程。它的作用是可以使某些有特殊性能（強度高、耐磨性、散熱性、耐腐性等）的微粒噴涂在性能較低的母體上，使得母體具有更好的性能。

　　PVD基本方法：真空蒸鍍、濺鍍 、離子鍍（空心陰極離子鍍、熱陰極離子鍍、電弧離子鍍、活性反應離子鍍、射頻離子鍍、直流放電離子鍍）。

　　PVD 技術是目前國際上科技含量高且被廣泛應用的離子鍍膜技術，它具有 鍍膜層致密均勻、附著力強、鍍性好、沉積速度快、處理溫度低、可鍍材料廣泛等特點（此章節主要闡述PVD 技術在不銹鋼及銅料表面電鍍加硬膜HC 的應用），是表面處理工程領域較佳的選擇。

　　PVD 本身鍍膜過程是高溫狀態下，等離子場下的輝光反應，亦是一個高凈化處理過程；鍍層的主要原材料是以鈦金屬為主，鈦是金屬中最與人體皮膚具親和性能的，使得PVD 產品本身具備純凈的環保性能。

　　PVD 可以做出成千上萬種顏色，甚至可以說自然界有的顏色，差不多都可以用PVD的方法做出來。如金色系列：歐洲金（2N18 及1N14）、日本金（GY01）、中國金（GY2N） 等；咖啡系列：深咖、淺咖、中咖等；黑色系列：槍色、灰色、超黑色等；時尚系列：太空色、香擯色、卡其色等。。。

　　水鍍

　　一般的電鍍（冷鍍）也就是指水鍍，是最常見的電鍍方式，是一個電化學的過程，利用正負電極，加以電流在鍍槽中進行，鍍金，鍍銀，鍍鎳，鍍鉻，鍍鎘等，電鍍液污染很大。水鍍還要分為電鍍和化學鍍兩種，電鍍一般作為裝飾性表面，因為有高亮度，化學鍍的表面比較灰暗，一般作為防腐蝕涂層。電鍍時,鍍層金屬做陽極,被氧化成陽離子進入電鍍液；待鍍的金屬制品做陰極,鍍層金屬的陽離子在金屬表面被還原形成鍍層.為排除其它陽離子的干擾,且使鍍層均勻、牢固,需用含鍍層金屬陽離子的溶液做電鍍液,以保持鍍層金屬陽離子的濃度不變。

　　真空蒸鍍、濺鍍、離子鍍

　　真空鍍主要包括真空蒸鍍、濺射鍍和離子鍍幾種類型，它們都是采用在真空條件下，通過蒸餾或濺射等方式在塑件表面沉積各種金屬和非金屬薄膜，通過這樣的方式可以得到非常薄的表面鍍層，同時具有速度快附著力好的突出優點，但是價格也較高，可以進行操作的金屬類型較少，一般用來作較高檔產品的功能性鍍層。

　　真空蒸鍍法是在高真空下為金屬加熱，使其熔融、蒸發，冷卻后在樣品表面形成金屬薄膜的方法,鍍層厚度為0.8-1.2um。將成形品表面的微小凹凸部分填平，以獲得如鏡面一樣的表面，無任是為了得到反射鏡作用而實施真空蒸鍍，還是對密接性較低的奪鋼進行真空蒸鍍時，都必須進行底面涂布處理。

　　濺鍍通常指的是磁控濺鍍，屬于高速低溫濺鍍法。該工藝要求真空度在1×10-3Torr左右，即1.3×10-3Pa的真空狀態充入惰性氣體氬氣（Ar），并在塑膠基材（陽極）和金屬靶材（陰極）之間加上高壓直流電，由于輝光放電（glow discharge）產生的電子激發惰性氣體，產生等離子體，等離子體將金屬靶材的原子轟出，沉積在塑膠基材上。一般金屬鍍膜大都采用直流濺鍍,而不導電的陶磁材料則使用RF交流濺鍍。

　　離子鍍是在真空條件下，利用氣體放電使氣體或被蒸發物質部分電離，并在氣體離子或被蒸發物質離子的轟擊下，將蒸發物質或其反應物沉積在基片上的方法。其中包括磁控濺射離子鍍、反應離子鍍、空心陰極放電離子鍍（空心陰極蒸鍍法）、多弧離子鍍（陰極電弧離子鍍）等。

　　涂鍍

　　涂鍍，又稱為刷鍍或無槽電鍍，是在金屬工件表面局部快速電化學沉積金屬的技術，其在原理和本質都屬于電化學加工中電鍍工藝的范籌。是和電解相反，利用電鍍液中金屬離子在電場的作用下，鍍覆沉積到陰極上去的加工過程。