利用濺鍍制程進行薄膜披覆的特點

2021/12/20

(1)金屬、合金或絕緣物均可做成薄膜材料。

(2)再適當的設定條件下可將多元復雜的靶材制作出同一組成的薄膜。

(3)利用放電氣氛中加入氧或其它的活性氣體，可以制作靶材物質與氣體分子的混合物或化合物。

(4)靶材輸入電流及濺射時間可以控制，容易得到高精度的膜厚。

(5)較其它制程利于生產大面積的均一薄膜。

(6)濺射粒子幾不受重力影響，靶材與基板位置可自由安排。

(7)基板與膜的附著強度是一般蒸鍍膜的10倍以上，且由于濺射粒子帶有高能量，在成膜面會繼續表面擴散而得到硬且致密的薄膜，同時此高能量使基板只要較低的溫度即可得到結晶膜。

(8)薄膜形成初期成核密度高，可生產10nm以下的極薄連續膜。                                

(9)靶材的壽命長，可長時間自動化連續生產。

(10)靶材可制作成各種形狀，配合機臺的特殊設計做更好的控制及最有效率的生產。