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磁控濺射鍍膜的優點

2021/08/18

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(1)基板有低溫性。相對于二級濺射和熱蒸發來說,磁控濺射加熱少。

(2)有很高的沉積率。可濺射鎢、鋁薄膜和反應濺射TiO2、ZrO2薄膜。

(3)環保工藝。磁控濺射鍍膜法生產效率高,沒有環境污染。

(4)涂層很好的牢固性,濺射薄膜與基板,機械強度得到了改善,更好的附著力。

(5)操作容易控制。鍍膜過程,只要保持壓強、電功率濺射條件穩定,就能獲得比較穩定的沉積速率。

(6)成膜均勻。濺射的薄膜密度普遍提高。

(7)濺射的金屬膜通常能獲得良好的光學性能、電學性能及某些特殊性能。

(8)濺射可連續工作,鍍膜過程容易自動控制,工業上流水線作業。

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