真空鍍膜特點(diǎn)

2020/12/07

　　真空鍍膜技術(shù)與濕式鍍膜技術(shù)相比較，具有下列優(yōu)點(diǎn)：

　　(1)薄膜和基體選材廣泛，薄膜厚度可進(jìn)行控制，以制備具有各種不同功能的功能性薄膜。

　　(2)在真空條件下制備薄膜，環(huán)境清潔，薄膜不易受到污染，因此可獲得致密性好、純度高和涂層均勻的薄膜。

　　(3)薄膜與基體結(jié)合強(qiáng)度好，薄膜牢固。

　　(4)干式鍍膜既不產(chǎn)生廢液，也無環(huán)境污染。